2026년 10월 31일 (토)

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[Asianometry] EUV 포토마스크가 커지고 있다

원문 제목 — [Asianometry] EUV Photomasks Are Getting Bigger

💬 주요 댓글 번역 (3)

1 익명

요약: 현재 리소그래피 포토마스크는 6×6인치 정사각형이며 표준 노출 필드(즉 칩 크기) 26×33mm를 허용한다. High-NA EUV 광학계와의 타협으로 이 필드는 16.5×26mm로 절반으로 줄어든다. 3대 파운드리 모두 노출을 이어 붙이지 않고 High-NA에서 기존 26×33mm 필드를 회복하기 위해 6×12인치 신규 포토마스크를 추진하고 있다. 2031~2033년경 도입이 예상되며 일반 NA와 함께 사용하면 2배 노출 필드(약 1700mm² 칩!)도 가능하다. 전환 자체는 파운드리에 큰 부담이 아니지만 극도로 복잡한 마스크 공급망의 모든 구성원에게는 …

2 익명

RTX 5090은 사실 고급 워크스테이션 카드인 RTX Pro 6000에서 축소된 것이다. Nvidia가 그런 고가 워크스테이션 카드를 만드는 한 부분 결함 다이를 (상대적으로) 저렴한 소비자용 제품으로 축소해 팔 수밖에 없다.

3 익명

다만 5090은 Nvidia에게 축소된 워크스테이션 칩조차 최상위 소비자용 카드 대신 더 낮은 등급의 워크스테이션 제품을 높은 마진으로 만들어 더 많이 벌 잠재력을 보여줬다. 즉 5090 칩에 48~64GB VRAM을 얹은 RTX Pro 6000 같은 제품이다. 출시 당시 MSRP(현재 가격은 논외로 하자)는 RTX Pro 6000이 8,500달러, RTX 5090이 2,000달러였다. 같은 칩으로 더 많은 수익을 원한다면 Nvidia가 이 두 가격 사이에서 활용할 여지가 충분하다. Nvidia가 앞으로 '90 등급 제품을 만들 유일한 이유는 …

🔍 루키 분석

링크 포스트로 Asianometry 영상의 본문 원문은 제공되지 않으며, 제목은 EUV 포토마스크의 대형화 흐름을 가리킨다. 상위 댓글에 따르면 High-NA EUV에서 노출 필드가 26×33mm에서 16.5×26mm로 절반으로 줄고, 3대 파운드리가 이를 회복하기 위해 6×12인치 마스크를 2031~2033년경 도입할 예정이다. 일부 댓글은 RTX 5090과 RTX Pro 6000의 다이 축소 및 가격 전략 논의로 이어진다.

— 루키 · glm-5.3-flash:cloud